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立式鍍膜生產(chǎn)線/立式雙腔回轉(zhuǎn)鍍膜生產(chǎn)線

       該立式鍍膜生產(chǎn)線為磁控濺射連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線，工件架運(yùn)動(dòng)采用磁導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，設(shè)有工件架自動(dòng)返回系統(tǒng)，減少了勞動(dòng)力；由于工件是立式安裝，減少了膜面產(chǎn)生針孔的概率；可配置平面或圓柱磁控濺射靶，配合直流、中頻等靶電源可在玻璃、亞克力等基片上上鍍制金屬膜、化合物膜、介質(zhì)膜和各種膜系；還可以根據(jù)藝需要配深冷系統(tǒng)、轟擊或離子源清洗系統(tǒng)、基片加熱系統(tǒng)；廣泛應(yīng)用于電子、家電及汽車鏡等產(chǎn)品的鍍膜。

產(chǎn)品詳細(xì)

       立式雙腔回轉(zhuǎn)鍍膜生產(chǎn)線的真空室分為左右兩個(gè)獨(dú)立腔體,每個(gè)腔體都有獨(dú)立的抽氣機(jī)組；生產(chǎn)線最前端后最后端分別設(shè)有回轉(zhuǎn)架和回轉(zhuǎn)室，回轉(zhuǎn)架上的工件架經(jīng)過(guò)各個(gè)真空室的右側(cè)腔體進(jìn)入回轉(zhuǎn)室，再?gòu)幕剞D(zhuǎn)室經(jīng)過(guò)各個(gè)真空室的左側(cè)腔體返回到回轉(zhuǎn)架裝卸工件，鍍膜室左、右兩側(cè)腔體都裝有磁控濺射靶，兩側(cè)都可以鍍膜，這樣就增加了鍍膜速度，也大大的節(jié)省了生產(chǎn)線占地面積，工件架在真空室內(nèi)返回減少了被污染的機(jī)率。

如果將生產(chǎn)線最前端后最后端分別設(shè)有的回轉(zhuǎn)架、回轉(zhuǎn)室更換為平移架和平移室則工件架左、右兩側(cè)都可以裝工件（雙面鍍膜）生產(chǎn)效率可增加一倍。


主要性能特點(diǎn)：

◆立式結(jié)構(gòu)膜層質(zhì)量更好，產(chǎn)品質(zhì)量更穩(wěn)，應(yīng)用范圍廣

◆設(shè)備穩(wěn)定性好，減少勞動(dòng)力、生產(chǎn)效率高

◆采用可編程控制器（PLC),觸摸屏（HMI)人機(jī)控制界面，操作簡(jiǎn)單易用

◆雙腔回轉(zhuǎn)鍍膜生產(chǎn)線大大的節(jié)省了生產(chǎn)線占地面積

◆雙腔回轉(zhuǎn)鍍膜生產(chǎn)線生產(chǎn)效率更高，應(yīng)用范圍更廣。


生產(chǎn)線型號(hào)：

DXJL-1020-12B-6      DXJL-1224-12B-6

 

最大工件尺寸（mm)：

H1000×L2000          H1200×L2440  

備注：

生產(chǎn)線尺寸及配置可按客戶要求訂做

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